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來  源：國家知識產(chǎn)權局

近日，國家知識產(chǎn)權局發(fā)布《關于進一步規(guī)范專利申請文件撰寫要求的業(yè)務提醒》，針對申請文件中常見的冗余內(nèi)容、表述偏差等問題提出明確要求。

文件中指出，為進一步提高專利申請文件的規(guī)范性，節(jié)約申請獲權程序，依據(jù)《專利審查指南》相關規(guī)定，對專利申請文件的撰寫作出以下提醒：

專利申請文件的核心是其記載的技術方案,應盡量避免引入與技術方案無關的內(nèi)容，尤其是說明書背景技術和附圖部分。

說明書的背景技術部分應當寫明對發(fā)明或者實用新型的理解、檢索、審查有用的背景技術及相應文件，說明背景技術中存在的問題和缺點時應圍繞技術內(nèi)容開展，盡量避免引入政治、經(jīng)濟、文化等與技術不直接相關的信息。

對于說明書附圖，建議僅在與保護范圍緊密相關時引入地圖。確需引入時，申請人應使用標準地圖，例如通過自然資源部網(wǎng)站“標準地圖服務系統(tǒng)”（http://bzdt.ch.mnr.gov.cn/）獲取，以確保地圖的準確性、合法性和權威性。以標準地圖為基礎制作附圖時，應遵守相關法律法規(guī)和部門規(guī)章。

規(guī)范化的專利申請文件不僅能縮短審查周期，更能為后續(xù)的專利維權、技術許可奠定堅實基礎。我們整理了這份“專利申請文件撰寫技巧合輯”送給申請人們，可關注“華進知識產(chǎn)權”公眾號查閱華進原創(chuàng)